CPO概念股，涨势凶猛！
最近几个交易日 ，随着贸易紧张情绪的缓解 ，A股科技股持续上行，芯片、光刻机 、CPO等方向领涨。今日（10月27日）盘中 ，上述板块再度拉升 ，CPO指数一度涨超4.70%，光刻机板块一度涨超5% 。
截至中午收盘，万得CPO指数涨幅仍超过4% 。其中 ，新易盛 、生益科技、中际旭创 、东田微 、源杰科技、生益电子等相关概念股在盘中均创出历史新高。光刻机板块涨幅接近3% ，万润股份涨停，晶瑞电材涨超15% 。
从整体A股市场来看 ，沪指震荡走强 ，再创十年新高，逼近4000点大关 。沪深两市半日成交额1.57万亿 ，半日放量超3300亿。截至午间收盘 ，沪指涨1.04%，深成指涨1.26% ，创业板指涨1.54%。午后开盘后 ，A股三大指数继续保持强势 。
CPO概念股集体大涨
继上周五大涨5%后，CPO指数今日再度拉升 ，盘中最高涨幅一度达到4.71% 。个股方面 ，东田微一度触及20%涨停，仕佳光子一度涨超15%，生益电子一度涨超13% ，新易盛一度涨超10% ，生益科技涨近10%，景旺电子、华工科技 、东山精密 、天孚通信、德明利 、工业富联等纷纷跟涨。
当天盘中 ，近10只CPO概念股的股价创出历史新高 ，包括新易盛 、生益科技、中际旭创 、东田微 、源杰科技、生益电子 、德明利 、环旭电子等 。
消息面上，10月24日 ，中共中央举行新闻发布会 ，介绍和解读党的二十届四中全会精神 。会上，科技部党组书记、部长阴和俊表示 ，中国政府高度重视人工智能 ，持续营造良好的创新生态，推动人工智能加快发展。
阴和俊表示 ，下一步 ，将认真贯彻落实《中共中央关于制定国民经济和社会发展第十五个五年规划的建议》要求，持续加强“十五五 ”人工智能顶层设计和体系化部署 。继续加强基础研究和关键核心技术攻关，聚力开发新的模型算法 、高端算力芯片 ，不断夯实人工智能发展的技术根基 。深入实施“人工智能+ ”行动 ，推动人工智能与科技创新 、产业发展、消费提质、民生保障等深度融合。
华安证券近日发布的研报指出，四中全会强调全面增强科技自主创新能力 ，可重点把握科技新一轮成长产业景气的投资机会 。本轮产业周期以AI算力基建为代表 ，具体可关注泛TMT 、算力（CPO/PCB/液冷/光纤）等 。开源证券也表示，随着“十五五”规划建议提出科技自主可控成为重点工作目标 ，国产算力板块有望成为市场主线。同时持续看好AI浪潮下的存储周期和消费电子的创新周期 。
另外 ，全球算力高景气度延续 。10月23日，Anthropic与谷歌正式宣布价值百亿美元的云服务合作协议 ，预计带来百万级谷歌定制TPU芯片 ，并在2026年带来预计1GW的AI算力。有分析称，这一事件凸显出全球AI算力需求正呈现指数级增长 ，开发和训练尖端AI系统的成本急剧飙升 ，也表明云服务提供商的自研芯片正成为英伟达之外不可忽视的力量。从全球AI算力产业链角度看，此次合作进一步强化了“多元算力供应 ”趋势 。
开源证券认为，上述合作有望提升Claude模型性能的同时 ，强化Anthropic和谷歌的合作关系 ，也凸显TPU芯片的性价比和泛用性 。海外各AI模型厂商加强与上下游合作，AI军备竞赛持续 ，有望持续带动算力产业链需求。
光刻机板块也大幅异动
光刻机概念股今日盘中也大幅拉升 ，板块指数涨幅一度超过5% 。截至中午收盘，万得光刻机指数涨幅仍接近3% 。个股方面 ，万润股份涨停 ，晶瑞电材涨超15%，锦华新材涨近10% ，佳先股份 、迦南科技涨超8% ，南大光电、富创精密等涨超6%，江化微涨幅也接近6%。
消息面上 ，国家标准委网站显示 ，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日 。标准的起草单位包括上海大学 、张江国家实验室 、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司 。
另据科技日报报道 ，近日 ，北京大学彭海琳教授团队及其合作者，通过冷冻电子断层扫描技术 ，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构 、界面分布与缠结行为 ，分辨率优于5纳米。这一发现不仅揭示了光刻胶分子在溶液中的微观物理化学行为，更指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案 ，有效清除了12英寸晶圆图案表面的光刻胶残留 ，为提升光刻精度与良率开辟新路径 。
彭海琳表示，光刻是芯片制造中关键的步骤之一 ，通俗理解 ，光刻就是给半导体晶圆（比如硅片）“印电路 ”，核心是用超精密“投影仪”把设计好的电路图案 ，缩小后印在硅片的特殊薄膜上 ，再通过冲洗定型 。光刻是芯片制造的核心技术之一，更是微纳加工领域“皇冠上的明珠”。
显影液则在电路图案形成过程中发挥着重要作用 。在光刻胶显影过程中，光刻胶的曝光区域会选择性地溶解在显影液的液膜中 。液膜中光刻胶分子的吸附与缠结行为 ，是影响晶圆表面图案缺陷形成的关键因素 ，进而可直接影响芯片性能和良率。
有券商指出，光刻胶作为半导体 、印制电路板、平板显示等行业的基础材料 ，其技术进步可以促进相关产业链的协同发展 ，上游材料供应商 、设备制造商，中游光刻胶生产企业 ，以及下游光刻胶产品应用企业都能从中受益。
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